HOME > R&D > Çٽɱâ¼ú
À°»ó, Ç×°ø, ÇØ»óÀÇ ±¸µ¿ÀåÄ¡, ÅÍ·¿½Ã½ºÅÛ, Àü¿ø ¹× ÀÓ¹«ÀåÄ¡, Ç×°øÀü±âÀüÀÚ, HMI, ¼¾¼ÀÀ¿ëºÐ¾ß µî ¹Ì·¡¹«±â ü°èÀÇ Ã·´Ü Çٽɱâ¼úÀ» °³¹ßÇÔÀ¸·Î½á ±º ¹æÀ§·Â Çâ»ó¿¡ ÀÏÀÍÀ» ´ã´çÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù.
ÀÚÁÖ±¹¹æÀ» À§ÇÑ ¿ì¸®ÀÇ »ç¸íÀ» ´ÙÇϱâ À§ÇؼÀÔ´Ï´Ù.
¹æÀ§»ê¾÷ÀÇ Ãʼ®ÀÌ µÇ´Â Àü±âÀüÀÚ Á¦¾îÀåÄ¡¸¦ ±Ù°£À¸·Î Áö»ó, Ç×°ø ¹× ÇØ»óºÐ¾ß µî¿¡ ÇÙ½ÉÀûÀÎ ¿ªÇÒÀ» ¼öÇàÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù.
°í°´Áß½ÉÀÇ °¡Ä¡°æ¿µ À̳äÀ¸·Î »ç¿ëÀÚ ÆíÀǼºÀ» Á¦°øÇϰí, ¹«°áÁ¡ ÁÖÀǸ¦ ½ÇÇöÇϱâ À§ÇÑ R&D, »ý»ê ¹× ǰÁú°æ¿µ ½Ã½ºÅÛ °³¼±À» À§ÇÑ ¿ì¸®ÀÇ ²ÞÀº ½° ¾øÀÌ À̾îÁö°í ÀÖ½À´Ï´Ù.